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    真空镀膜机

    发布时间:2017-08-04

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    系统概述

    真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。

    常用于对半导体、光伏、电子、精密光学等行业的纳米级表面处理。

    系统原理

    通过电子枪发射高压电子轰击坩埚中的待镀靶材,使其在高真空下蒸发并沉积在被镀基片上以获得镀膜。

    系统配置

    • 自动化控制器: e-Control PLC,是控制系统的核心硬件平台。
    • 人机界面硬件: TPC1503工业级15寸触摸式平板电脑,稳定可靠。
    • 人机界面软件: NETSCADA组态软件开发平台,提供真空镀膜机的控制和监视。

    系统评价:

    • 提供多达99层一次成膜支援;
    • 自动倒幕翻转,可实现双面镀膜;
    • 支持Excle导入靶材、设备参数、工艺参数等;
    • 支持电子枪像素点数量自定义控制,实现靶材的无缝隙加热控制;
    • 针对不同加热段,采用不同蒸镀模式,保证熔料均温的同时,保证熔料效率;
    • 一键式启动,从启动到生产结束只需轻点一下鼠标,各种生产流程自动完成;
    • 批号式数据管理方案,实时自动保存生产信息,对生产数据有据可查;

    网络化方案,提供远程组网端口,轻松实现远程多系统集中控制

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